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Study/Smart wear8

wafer-scale WSI ( wafer-scale integration ) 직접 회로 장치 WSI(Wafer-scale Integration)는 간단히 말해, 단일 "초칩"을 생산하기 위해 전체 실리콘 웨이퍼를 사용하는 매우 큰 집적 회로 네트워크를 구축하는 시스템입니다. WSI는 대용량 및 축소된 패키징을 결합하여 일부 시스템, 특히 대규모 병렬 슈퍼컴퓨터의 비용을 크게 절감할 수 있을 것으로 기대되었습니다. 이 이름은 WSI가 개발될 당시 예술의 현재 상태인 매우 큰 규모의 통합이라는 말에서 따온 것입니다. https://news.naver.com/main/read.nhn?oid=009&aid=0002283360 https://www.deepspace.ucsb.edu/projects/wafer-scale-spacecr.. 2019. 11. 19.
마찰전기 발전기 기술 https://news.unist.ac.kr/kor/20170530-01/ 출력 20배 높인 ‘마찰전기 발전기’ 기술 나왔다 백정민-양창덕 교수 공동 연구팀, 서로 다른 고분자 결합한 신소재 개발 소재의 유전상수 높이면 출력 높아져… Science Advances 논문 발표 바람이나 진동, 소리, 발걸음 등에서 에너지를 수확하는 기술을 크게 발전시킬 기술이 나왔다. ‘마찰전기 발전기’를 이루는 소재의 전기적 특성을 바꿔 출력을 20배 높이는 방법을 찾아낸 것이다. 백정민 신소재공학부 교수팀은 양창덕 에너지 및 화학공학부 교수팀과 공동으로 고분자 두 종류를 결합한 신소재와 금속 전극을 마찰시켜 전기를 생산하는 고효율 마찰전기 발전기를 개발했다. 마찰전기 발전기는 두 물체가 스칠 때 만들어지는 전하 불균형을.. 2019. 10. 30.
CVD의 뜻과 특징 CVD란, 열, 전계, 빛 등의 외부 에너지를 사용하여 원료가스를 분해시켜 화학적 기상반응으로 기판상에 박막을 형성시키는 기술이다. 보통의 고체상, 액체상의 반응에서는 얻기 어려운 화학조성의 박막도 쉽게 제작할 수 있으며, 원료가스에 따라 임의의 박막을 얻을 수 있고, 전기적 특성, 기계적 특성 등의 기능을 기판에 부여할 수 있다. 일반적으로 CVD는 막조성의 제어가 어렵지만 대면적, 대량의 표면처리를 비교적 간단하게 할 수 있으므로 반도체와 세라믹 분야에서 실용되고 있다. CVD는 사용하는 외부 에너지에 따라 열 CVD, 플라스마 CVD, 광 CVD 등으로 분류된다. 특히 플라스마 CVD는 다른 CVD에 비하여 저온에서 성막이 가능하고 또한 대량 처리가 가능하기 때문에 근년 가장 많이 이용되고 있는 방.. 2019. 10. 3.
FAS 뜻과 특징 FAS is a kind of common water-repellent coating, which has very low surface energy. FAS는 표면 에너지가 매우 낮은 일반적인 방수 코팅의 한 종류입니다. 가수 분해에 의해 FAS(C8F13H4Si(OR)3)는 물과 반응하여 분자의 끝에 반응성 그룹으로 실리콘 수산화물을 형성합니다. 이 분자는 반응성 실란 엔드를 통해 기질에 결합되며, 사실상 이웃하는 형광알킬 꼬리 사이의 상호 작용이 없어 단일 모놀레이터의 최대 안정적 두께로 이어집니다. 2019. 10. 3.

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